北京化工大學(xué)嚴(yán)乙銘教授、楊志宇副教授成功地在WS2-WO3異質(zhì)結(jié)構(gòu)中構(gòu)建了一個(gè)強(qiáng)界面電場(chǎng)，通過提高W的d帶中心來增強(qiáng)中間體的吸附，從而加速了ENRR動(dòng)力學(xué)。結(jié)果顯示，WS2-WO3表現(xiàn)出62.38 μg h-1 mgcat-1的高NH3產(chǎn)率和24.24%的法拉第效率（FE）。原位表征和理論計(jì)算表明，WS2-WO3中的強(qiáng)界面電場(chǎng)使W的d帶中心向費(fèi)米能級(jí)上移，導(dǎo)致-NH2和-NH中間體在催化劑表面的吸附增強(qiáng)。該研究為界面電場(chǎng)和d帶中心之間的關(guān)系提供了新的見解，并為增強(qiáng)ENRR過程中中間體的吸附提供了一種前途策略。

結(jié)果分析

本文分析了WS2-WO3界面與d帶中心的電場(chǎng)強(qiáng)度等關(guān)系，結(jié)果表明（圖1），在WS2-WO3異質(zhì)結(jié)構(gòu)中可以構(gòu)建一個(gè)強(qiáng)大的界面電場(chǎng)來提升W的d帶中心，從能加強(qiáng)中間產(chǎn)物吸附，促進(jìn)ENRR動(dòng)力學(xué)過程。圖2表征了WS2-WO3合成過程及結(jié)構(gòu)。圖3.表征了WS2和WO3的電子能帶結(jié)構(gòu)、表面界面電場(chǎng)強(qiáng)度分布等信息。這些結(jié)果充分證實(shí)了WS2-WO3異質(zhì)結(jié)構(gòu)在WS2和WO3相間形成了強(qiáng)大的界面電場(chǎng)，這將有利于提高WS2-WO3的ENRR性能。

圖1.（a）具有不同的界面電場(chǎng)強(qiáng)度和活性W位點(diǎn)的d帶中心（εd）的WS2-WO3的PDOS。（b）WS2-WO3中εd值與界面電場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系。（c）WS2-WO3中ICOHP值與界面電場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系。（d）WS2、WO3和WS2-WO3的WF。（e）WS2-WO3的靜電電位剖面。（f）WS2-WO3的DCD。（g）WS2-WO3沿z方向的平面平均電荷密度差。（h）WS2-WO3的ELF。（i）WS2-WO3異質(zhì)結(jié)構(gòu)中界面電荷轉(zhuǎn)移過程的示意圖。

圖2.（a）WS2-WO3合成示意圖。（b）WS2-WO3的TEM。（c）b中所選區(qū)域的HRTEM。（d）c中白色矩形所示區(qū)域的放大圖。（e）WS2-WO3的HAADFSTM。（f）由e中的白色矩形指示的區(qū)域f的FFT。（g）由e中的白色矩形指示的區(qū)域g的FFT。（h）WS2-WO3的HAADF。

圖3. WS2和WO3的（a）Mott-Schottky圖和（b）Kubelka-Munk圖。（c）WS2和WO3的電子能帶結(jié)構(gòu)。（d）UPS獲得的WS2、WO3和WS2-WO3的二次電子截止邊緣。（e）WS2、WO3和WS2-WO3的ζ電位。（f）WS2、WO3和WS2-WO3的表面界面電場(chǎng)強(qiáng)度分布。（g-i）WS2、WO3和WS2-WO3的3D表面電勢(shì)分布和對(duì)應(yīng)的線。

圖4.（a）WS2-WO3在0.1 M Ar飽和和N2飽和的Li2SO4中的LSV。（b）WS2-WO3在-0.4 V vs RHE和開路電位下的電壓計(jì)時(shí)電流曲線。（c）用瓦特法和克里斯普法研究了電解質(zhì)的紫外-可見吸收光譜。（d）WS2、WO3、WS2和WO3以及WS2-WO3的NH3產(chǎn)量。（e）WS2、WO3、WS2和WO3以及WS2-WO3的法拉第效率。（f）14N2和15N2氣體供給的WS2-WO3的1H NMR光譜。（g）WS2、WO3和WS2-WO3在0.1 M Li2SO4電解質(zhì)中的Cdl測(cè)量。（h）WS2、WO3和WS2-WO3在0.1 M Li2SO4電解質(zhì)中的奈奎斯特圖。

為了了解WS2-WO3增強(qiáng)ENRR性能的潛在機(jī)制，本文測(cè)量了PDOS、原位拉曼光譜和原位FTIR光譜，表征催化劑和中間體之間的結(jié)合強(qiáng)度。催化劑的d波段中心位置決定中間體吸附能，由于d帶中心較高能級(jí)允許催化劑和中間體強(qiáng)相互作用，d帶中心費(fèi)米能級(jí)向上移表明中間體的吸附增強(qiáng)，加快催化反應(yīng)進(jìn)程。圖5a說明WS2-WO3對(duì)ENRR中間體的結(jié)合強(qiáng)度應(yīng)該更強(qiáng)。利用原位拉曼光譜(圖5b和S20)監(jiān)測(cè)表征實(shí)驗(yàn)1小時(shí)內(nèi)反應(yīng)中間體。檢測(cè)到歸屬于NH2和NH的位于 1328cm-1和1574 cm-1兩個(gè)峰，WS2和WO3表面相比WS2-WO3表面對(duì)NH2和NH吸附強(qiáng)度更高，說明WS2和WO3對(duì)ENRR中間體具有更強(qiáng)的結(jié)合強(qiáng)度。原位FTIR觀測(cè)到更多的峰，5個(gè)正峰分別位于1148、1209、1504、1536和3452 cm-1，歸屬于歸因于N-N伸縮振動(dòng)、-NH2擺動(dòng)振動(dòng)、-H-N-H彎曲振動(dòng)，-NH4+擺動(dòng)振動(dòng)，和-N-H彎曲振動(dòng) (圖5c和S21)。上述結(jié)果表明，WS2-WO3的d波段中心上移可以有效增強(qiáng)對(duì)中間產(chǎn)物NH2和NH的吸附，這是WS2-WO3對(duì)ENRR具有優(yōu)異電催化活性的原因。

圖5.（a）WS2、WO3和WS2-WO3分別用于活性W位點(diǎn)的PDOS。（b）WS2-WO3在0.1 M Li2SO4中，-0.4 V下的原位拉曼光譜。（c）WS2-WO3的原位FTIR。（d-f）WS2、WO3和WS2-WO3的pCOHP。（g）活性中間體的計(jì)算吸附能。（h）*NH和（i）*NH2中間體在WS2、WO3和WS2-WO3上的DOS。

S20 原位拉曼光譜(a) WS2 and (b) WO3 at -0.4 V in 0.1 M Li2SO4.

作者簡(jiǎn)介

嚴(yán)乙銘，教授北京化工大學(xué)教授、博導(dǎo)，2008年-2010年，德國弗萊堡大學(xué)洪堡學(xué)者；期間，2009年瑞典隆德大學(xué)洪堡訪問學(xué)者；2010年-2017年，北京理工大學(xué)引進(jìn)人才、教授、博導(dǎo)，教育部新世紀(jì)優(yōu)秀人才，任北京理工大學(xué)能源化工研究所所長(zhǎng)、北京理工大學(xué)能源化工系主任；2015年入選國家高層次人才。主要從事電化學(xué)催化、電化學(xué)水處理以及新能源材料與技術(shù)的應(yīng)用研究。已發(fā)表SCI論文100余篇，申請(qǐng)專*14項(xiàng)，授權(quán)6項(xiàng)。獲得中國分析測(cè)試協(xié)會(huì)二等獎(jiǎng)， 2012年度北京市科學(xué)技術(shù)一等獎(jiǎng)，2015年國家自然科學(xué)二等獎(jiǎng)。

楊志宇，北京化工大學(xué)副教授。北京理工大學(xué)博士學(xué)位，清華大學(xué)博士后。主要研究方向?yàn)殡娀瘜W(xué)領(lǐng)域。目前的研究方向是 (i)電化學(xué)儲(chǔ)能，(ii)電催化CO2還原，電催化甲酸氧化和電催化氮還原 (iii)電容除鹽。已發(fā)表一作、通訊SCI論文60余篇，包括JACS、AEM、AFM、Nano Energy、JEC、Small、CEJ、JMCA、JPS，申請(qǐng)專*7項(xiàng)，授權(quán)5項(xiàng)。

相關(guān)產(chǎn)品推薦

本研究的拉曼光譜采用Finder系列拉曼光譜儀檢測(cè)，該系統(tǒng)全新升級(jí)為 930全自動(dòng)化拉曼光譜分析系統(tǒng)，如需了解該產(chǎn)品，歡迎咨詢。

免責(zé)聲明

北京卓立漢光儀器有限公司公眾號(hào)所發(fā)布內(nèi)容（含圖片）來源于原作者提供或原文授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章版權(quán)、數(shù)據(jù)及所述觀點(diǎn)歸原作者原出處所有，北京卓立漢光儀器有限公司發(fā)布及轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息及用于網(wǎng)絡(luò)分享。

如果您認(rèn)為本文存在侵權(quán)之處，請(qǐng)與我們聯(lián)系，會(huì)第一時(shí)間及時(shí)處理。我們力求數(shù)據(jù)嚴(yán)謹(jǐn)準(zhǔn)確，如有任何疑問，敬請(qǐng)讀者不吝賜教。我們也熱忱歡迎您投稿并發(fā)表您的觀點(diǎn)和見解。